Nikon sfida ASML con attrezzature per chip a prezzi più bassi

Nikon Corp. si sta preparando a una sfida strategica alla dominanza di ASML Holding NV nel mercato della litografia per semiconduttori sviluppando attrezzature avanzate per la produzione di chip a prezzi significativamente inferiori rispetto alle offerte del suo rivale. Il gigante giapponese dell'ottica mira a vendere le sue nuove macchine all'avanguardia a circa il 50% in meno rispetto ai sistemi ASML comparabili, secondo un rapporto di Nikkei del 28 maggio 2026. Questa strategia di prezzo aggressiva mira all'alto costo degli strumenti di fabbricazione dei semiconduttori, un collo di bottiglia critico nella catena di fornitura globale dei chip. La notizia ha contribuito a una sessione positiva per il mercato più ampio, con lo SPDR S&P 500 ETF Trust (SPY) che scambiava a $128,65, in aumento del 2,57% alle 21:48 UTC di oggi, riflettendo un intervallo di scambio tra $127,75 e $130,19.

Contesto — [perché è importante ora]

Il mercato della litografia per semiconduttori è stato dominato da ASML per oltre un decennio, in particolare da quando la sua tecnologia a ultravioletti estremi (EUV) è diventata lo standard del settore per la produzione dei chip più avanzati. Il monopolio virtuale di ASML nell'EUV le ha permesso di imporre prezzi elevati, con una singola macchina EUV che costa oltre $150 milioni. Questa elevata spesa in conto capitale ha concentrato il potere di fabbricazione di chip avanzati nelle mani di pochi grandi stabilimenti come Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) e Samsung. La sfida di Nikon emerge mentre i governi di tutto il mondo spingono per catene di fornitura di semiconduttori più diversificate geograficamente e resilienti. Iniziative come il CHIPS Act degli Stati Uniti e il Chips Act europeo stanno canalizzando miliardi in sussidi per costruire capacità di produzione domestica, creando un potenziale varco per una seconda fonte di strumenti di litografia avanzata. La tensione geopolitica attorno a Taiwan ha ulteriormente accelerato questa tendenza, rendendo la sicurezza della catena di fornitura una priorità assoluta per i responsabili politici e i produttori di chip. Il catalizzatore per il passo di Nikon è uno sforzo di R&S pluriennale per perfezionare la propria tecnologia di litografia a maschera multi-fascio. Nikon crede che il suo approccio possa raggiungere prestazioni simili a quelle dei sistemi EUV di ASML per alcune applicazioni, pur essendo meno complesso e costoso da produrre e gestire. Il tempismo si allinea con l'impegno dell'industria verso i nodi di processo da 2 nanometri e più piccoli, dove la domanda di strumenti di patterning precisi sta intensificandosi.

Dati — [cosa mostrano i numeri]

Il cuore della strategia di Nikon è un confronto diretto dei prezzi. Dove i sistemi EUV ad alta NA di ASML comandano prezzi ben superiori a $300 milioni, Nikon mira a prezzare i suoi sistemi concorrenti nella fascia di $150 milioni a $200 milioni. Questo rappresenta uno sconto di circa il 50%, una significativa interruzione dei prezzi in un mercato in cui i costi delle attrezzature sono costantemente aumentati. La disparità di capitalizzazione di mercato tra le due aziende evidenzia la posizione consolidata di ASML. Secondo gli ultimi dati, ASML detiene una valutazione di mercato superiore a $350 miliardi, mentre la capitalizzazione di mercato di Nikon è di circa $7 miliardi. Nonostante questo divario, Nikon possiede un pedigree storico nella litografia; al suo apice nei primi anni 2000, deteneva oltre il 50% del mercato degli strumenti di litografia ad immersione ArF, predecessore dell'EUV. Un confronto delle recenti performance finanziarie sottolinea le poste in gioco. ASML ha riportato ricavi nel 2025 superiori a €27 miliardi con un margine di utile netto superiore al 30%. Al contrario, il business di Precision Equipment di Nikon, che include strumenti per la produzione di chip, ha generato ricavi di circa ¥300 miliardi (circa $2,7 miliardi) nel suo ultimo anno fiscale. Il successo di Nikon in questo sforzo rappresenterebbe un cambiamento monumentale nella sua composizione dei ricavi e nella redditività.

Metrica	ASML	Nikon (Obiettivo)
Prezzo del Sistema (Alta Gamma)	>$300M	~$150M-$200M
Quota di Mercato (EUV)	~100%	0% (Obiettivo di Entrata)
Ricavi 2025 (Segmento)	€27B+	~¥300B

Il settore più ampio delle attrezzature per semiconduttori, come monitorato dallo SPDR S&P 500 ETF Trust, ha mostrato forza con l'ETF che scambiava a $128,65, un guadagno del 2,57% nella giornata.

Analisi — [cosa significa per i mercati / settori / ticker]

Una seconda fonte credibile per la litografia avanzata avrebbe effetti profondi di secondo ordine sull'ecosistema dei semiconduttori. I principali beneficiari sarebbero le fonderie di chip come TSMC, Intel e Samsung, che potrebbero vedere ridotti i costi di spesa in conto capitale e aumentato il potere contrattuale. Questo potrebbe eventualmente abbassare il costo dei chip avanzati per i clienti downstream nei settori dei data center, dell'automotive e dell'IA. I fornitori di attrezzature che forniscono componenti a Nikon, come i produttori di laser e le aziende di ottica di precisione, vedrebbero anche una nuova via di crescita. L'impatto più diretto è ribassista per ASML (ASML). Sebbene il suo vantaggio tecnologico e l'immensa base installata forniscano un forte vantaggio competitivo, l'emergere di un concorrente a prezzo inferiore potrebbe comprimere i suoi margini di profitto leader del settore e rallentare la sua traiettoria di crescita. Gli investitori potrebbero rivedere il suo premio di valutazione se l'erosione della quota di mercato diventa un rischio tangibile. Un'importante limitazione alla sfida di Nikon è l'immensa difficoltà di sostituire uno standard consolidato. La tecnologia EUV di ASML è profondamente integrata nei processi di produzione di ogni grande fonderia. Passare a una nuova fonte di litografia richiede una vasta riqualificazione e ricalibrazione dell'intera linea di produzione, un processo costoso e lungo che crea una notevole inerzia. Il flusso iniziale di investimenti sarà probabilmente cauto, con le fonderie che conducono prove su piccola scala della tecnologia di Nikon prima di impegnarsi in ordini di grandi dimensioni. A lungo termine, i fondi hedge potrebbero stabilire operazioni di coppia, long Nikon e short ASML, per scommettere su un riequilibrio del mercato.

Prospettive — [cosa osservare successivamente]

Il catalizzatore immediato da monitorare è l'annuncio ufficiale pianificato da Nikon e le divulgazioni tecniche, attese prima della fine del Q3 2026. Il mercato scrutinizzerà le specifiche del suo nuovo sistema, in particolare metriche come il throughput (wafer all'ora) e l'accuratezza dell'overlay, per determinare se compete davvero con le prestazioni di ASML. Livelli chiave da osservare per le azioni di ASML sono la zona di supporto di $700, la cui violazione potrebbe segnalare un crescente timore da parte degli investitori. Per Nikon, una rottura sostenuta sopra il suo massimo di 52 settimane, intorno a ¥2.000, indicherebbe una crescente convinzione del mercato nella sua strategia. La performance del VanEck Semiconductor ETF (SMH) servirà da barometro per il sentimento complessivo del settore verso questo cambiamento competitivo. Il prossimo grande evento del settore che potrebbe fornire indizi è la prossima call sugli utili di TSMC e i suoi commenti sui piani di spesa in conto capitale per il 2027. Qualsiasi menzione di valutazione o test di fonti di litografia alternative sarebbe un segnale positivo significativo per Nikon. La conferenza SEMICON West di luglio 2026 sarà anche un luogo critico per chiacchiere del settore e potenziali annunci di partnership.